光刻机和刻蚀机哪个难？ 时间：2026-11-05 09:59:00 浏览：947次 光刻更难，无论是工艺还是设备。光刻需要的技术基础涵盖了几乎所有最顶尖的工业门类，尤其是EUV出现以后，光刻都需要在真空下完成了。而刻蚀技术在精密定位方面没有高要求，系统复杂度和工艺复杂度低一些。 标签：光刻机,刻蚀,哪个,半导体,芯片（集成电路）
